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半導体関連

半導体関連について

パソコンや携帯電話、スマートフォン、テレビやエアコンといった家電製品など、シリコンウェーハが使われている製品は、みなさんのすぐ身近にあります。
その電子機器の頭脳とも言える「半導体デバイス」の大切な基板材料であるシリコンウェーハを製造するエレクトロ二クス業界向けに「高清浄度を必要とするクリーンルーム(環境)の建設」をご提供致します。

半導体関連の特徴

物質には電気を伝えるのに3つの種類が有ります。

(1)導 体

電気回路に使われる銅やアルミの様に電気を良く伝える物質

(2)絶縁体

ゴムやガラスの様に全く電気を伝えない物質

(3)半導体

(1)(2)の中間の物質:セミコンダクター(semiconductor)と言い電気を「半ば導くもの」と言う意味

半導体の製造工程について

多結晶シリコンから半導体のベースとなる単結晶シリコン製造工程は、主に
(1)単結晶引上工程、(2)ウェーハ加工工程、(3)特殊加工工程、
3つの工程に分けられますが、当社は前工程や後工程となる洗浄設備や検査機器に至るまで、一貫した技術を保有し広くお客様のニーズにお応えいたします。

(1)単結晶引上工程

当社は単結晶引上工程では、多結晶シリコンを溶解させる石英ルツボ製造設備の製作、カタログ商品である引上機等をご提供します。

(2)ウェーハ加工工程

当社は加工工程における移載設備を始め、洗浄工程におけるエッチング設備、検査工程におけるクリーンな環境やユーティリティー設備をご提供します。

(3)特殊加工工程

当社ではウェーハ加工工程のポリッシュド・ウェーハをさらに特殊加工する為に必要不可欠なユーティリティー設備や環境をご提供します。

クリーンルームについて

空気中の浮遊塵埃が限定された清浄度レベル以下に管理され、必要に応じて温度・湿度等を一定の基準に制御する部屋で、このような工業品の製造工程で用いられるクリーンルームを工業用クリーンルーム(Industrial Clean Room, ICR)という。
当社のクリーンルームの技術は、半導体の素材産業を軸に30年余を越す経験を有し、その経験と実績をもとに、お客様のニーズにお応えします。
クリーンルーム運用の四原則である、浮遊塵埃(パーティクル)を、
(1)部屋に持ち込まない。(2)排除する。(3)発生させない。(4)堆積させない。
を常に念頭に置き、基本計画、施工計画を立案提示します。
又施工に着手する際も当社社員のみならず関係作業員全員がこの原則を常識として理解し、習慣として行動します。

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